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黄佳裕
工程师
办公室:国量院519
研究方向: Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体外延片综合检测与后端工艺优化
郝海博
工程师
办公室:国量院342
研究方向: 二维材料制备和光电子源
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共2项
