一、个人简介

本人长期致力于半导体制造领域，专注于深紫外（DUV）光刻机工艺工作。光学系统校准、光刻胶性能优化、曝光剂量精确控制等环节全方位参与光刻工艺流程，不断优化生产参数。通过先进模拟软件预测工艺缺陷并加以改进，同时与设备维护团队紧密合作，确保光刻设备稳定运行与升级。与光罩制作、刻蚀、薄膜沉积等工艺部门紧密协作，共同解决兼容性难题，持续优化微纳加工工艺平台整体工艺集成，为先进制程研发提供有力支持，助力团队攻克多项技术难题，推动光刻工艺不断进步。

二、教育背景

2018.10-2022.10    古斯塔夫埃菲尔大学 光电子工程 博士学位

2016.09-2018.10    巴黎高等电子工程师学院 微电子工程 工程师学位

2013.09-2017.06    西安交通大学 精密技术与仪器 学士学位

三、工作经历

2022.10-2024.10  南方科技大学  博士后

2024.10-至今    深圳国际量子研究院 工程师